磁控濺射鍍膜設備濺射鍍膜是在真空條件下，利用荷能粒子轟擊靶表面，使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術。濺射鍍膜具有膜層和基體的附著力強，膜層均勻性好等優點，適合各種金屬、氧化物、半導體薄膜的制備，廣泛應用于光伏、LED、微電子、硬質薄膜等領域。 設計參數
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脈沖激光沉積鍍膜設備脈沖激光沉積是采用高功率脈沖激光對材料進行蒸發，并在基底上形成薄膜的方法。該技術適用面非常廣，從單質、氧化物、氮化物到高分子均能沉積；并且由于該技術可精確控制化合物薄膜中各元素的相對比例，尤其適合沉積高精度的多元化合物薄膜，先廣泛用于高溫超導、鐵電、壓電、生物陶瓷、光磁記錄等薄膜的制備。 設計參數
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離子束輔助沉積設備離子束輔助沉積是指在氣相沉積鍍膜的同時，采用低能離子束進行轟擊，從而形成單質或化合物薄膜的技術，還可通過反射式高能電子衍射儀（RHEED）進行在線結構分析。該方法制備的薄膜具有高精度、高純度、重復性和一致性好的優點，廣泛應用于光學膜、傳感器、光伏、半導體等領域。 設計參數
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蒸發鍍膜設備蒸發鍍膜是在真空條件下通過電阻或電子束加熱鍍膜材料，使其原子或分子從表面蒸出，沉積到基片表面從而形成薄膜的技術，該技術具有使用范圍廣、薄膜厚度高度可控、技術成熟、成本低廉等特點。目前，真空蒸鍍技術已經廣泛應用于OLED、有機光伏、光學膜、新型半導體、裝飾鍍膜等領域，為一種不可缺少的鍍膜技術。 設計參數
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